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德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

簡要描述:使用德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600,充滿信心地制備用于電鏡分析的細(xì)粒度薄膜。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產(chǎn)生值得信賴的可重現(xiàn)結(jié)果,提高每次運行的樣本產(chǎn)出。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-11
  • 訪  問  量:6160

詳細(xì)介紹

品牌Leica/徠卡價格區(qū)間80萬-100萬
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè)

德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

使用德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600,充滿信心地制備用于電鏡分析的細(xì)粒度薄膜。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產(chǎn)生值得信賴的可重現(xiàn)結(jié)果,提高每次運行的樣本產(chǎn)出。

僅供研究使用


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適合廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統(tǒng)

EM ACE600 濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室,十分靈活,適合廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。 實現(xiàn)工作流程目標(biāo),滿足實驗室需求——可在同一個制備過程中運行兩個不同的濺射源,還可配置 EM ACE600 用于高級冷凍工作流程。

通過方便的前門裝載方法、僅需按下一個按鈕即可啟動的收料即鍍式自動化鍍膜過程,EM ACE600 可以讓您簡單可靠地制備常規(guī)樣本并節(jié)省寶貴的時間。

無論您需要……

對扁平或結(jié)構(gòu)化的非導(dǎo)電樣本進(jìn)行高分辨率成像

增強納米級結(jié)構(gòu)(如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈)的對比度

生成透射電鏡 (TEM) 載網(wǎng)的薄而堅固的支撐層,或者

為敏感樣本提供保護(hù)層

擴展冷凍應(yīng)用中的系統(tǒng)

……>使用 EM ACE600 碳 鍍膜和濺射鍍膜機,皆可實現(xiàn)。

適合廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統(tǒng) 

帶冷凍傳輸裝置的 EM ACE600 碳、電子束和濺射鍍膜機

濺射涂層碳涂層

通過濺射鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統(tǒng),每次運行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝,滿足先進(jìn)鍍膜所需的適當(dāng)條件并實現(xiàn)可重現(xiàn)的結(jié)果。

可進(jìn)行高達(dá) 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析,具有出色的基礎(chǔ)真空度(<2x10-6 mbar),可為各種不同的濺射靶材仔細(xì)均衡調(diào)整工藝參數(shù)。 根據(jù)樣本形態(tài)的需要調(diào)整樣本距離和鍍膜角度。

為進(jìn)一步加強鍍膜效果,可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar,之后再嘗試對氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

濺射鍍膜 

不同材料的2納米厚的細(xì)粒度濺射鍍膜,沉積在 SiOx 基材上,200kX 放大倍率。

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛。 它需要具有導(dǎo)電性,但對電子束透明,并且不能具有顆粒結(jié)構(gòu)。

采用自適應(yīng)脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜,厚度精確、堅固并具有導(dǎo)電性,還可以通過烘焙法進(jìn)一步減少污染。 最終,這類薄膜提供:

對電子的高透明度

足以承受電子轟擊的強度

均勻的厚度,這對于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關(guān)重要

超薄碳膜 

A:常規(guī)碳膜(15納米碳);B:超薄碳膜(3納米)。 輕松觀察硒化鎘 (CdSe) 量子片的晶格。 圖片由比利時 Eva Bladt 和 Sara Bals(EMAT,安特衛(wèi)普大學(xué))采集。 提供方: Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方: Daniel Vanmaekelbergh,烏特勒支大學(xué)納米材料科學(xué)研究所(Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht)

按需配置 EM ACE600

通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室,可在不破壞真空的情況下用一臺鍍膜機運行多個制程。 同時,將濺射頭與先進(jìn)的碳絲蒸發(fā)器結(jié)合使用或者選用兩個濺射源,可在一次制備過程中完成多層金屬鍍膜。

采用經(jīng)過優(yōu)化的帶兩個斜角端口和一個旋轉(zhuǎn)臺的雙源方法,可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分布的薄膜

有穩(wěn)定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇

為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

可隨時在現(xiàn)場升級

按需配置 EM ACE600 

適用于雙源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供選擇: 1- 碳絲蒸發(fā) | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發(fā) | 4- 電子束蒸發(fā)

專注于制備過程的關(guān)鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機,只需按下一個按鈕即可讓您充滿信心地完成常規(guī)樣本制備。 簡單可靠的工作流程和便捷的標(biāo)準(zhǔn)操作程序讓您能夠?qū)W⒂陔婄R樣本制備的關(guān)鍵部分。 您可以專注于優(yōu)化工作流程,減少自己學(xué)習(xí)操作方法或培訓(xùn)他人使用方法的時間。

通過前門安全裝卸敏感樣本

基于工作流程的用戶界面,可快速訪問相關(guān)參數(shù),全程引導(dǎo)式操作

輕量、穩(wěn)定的濺射源,方便日常操作

專注于制備過程的關(guān)鍵部分 

EM ACE600 觸摸屏,通過基于工作流程的用戶界面操作

 

擴展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜,提升實驗室電鏡實驗?zāi)芰Α?將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后,通過 EM VCT500 傳輸系統(tǒng)將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡,EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機可幫助制備樣本用于研究,如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)分析。

EM ACE600 提供:

用于傳輸冷凍樣本的接口

用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺

基本型斷裂裝置

選擇優(yōu)化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機,滿足實驗室日常工作需求。

有各種樣本支架和樣本臺可供選擇,例如帶有多達(dá) 3 個電動軸的 3 軸樣本臺或?qū)S美鋮s臺。 可快速更換的樣本臺基片使 EM ACE600 成為多功能工具。

選擇優(yōu)化配置 

1:電動 3 軸樣本臺 | 2:旋轉(zhuǎn)投影(LARS)樣本臺 | 3:旋轉(zhuǎn)“手動"樣本臺 | 4:冷凍臺

旋轉(zhuǎn)投影—使納米級結(jié)構(gòu)清晰可見

以專用小角度旋轉(zhuǎn)投影(LARS)設(shè)置配置 EM ACE600,可在透射電鏡中對納米級結(jié)構(gòu)(如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈)成像。 EM ACE600 電子束源與電動 LARS 樣本臺將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優(yōu)化的樣本臺幾何結(jié)構(gòu)相結(jié)合,可實現(xiàn)掠角入射沉積。 用細(xì)粒度鉑層以小角度對 DNA 鏈進(jìn)行投影鍍膜,然后添加碳層穩(wěn)定脆性結(jié)構(gòu),以便在 TEM 中進(jìn)行分析。

旋轉(zhuǎn)投影—使納米級結(jié)構(gòu)清晰可見 

出芽酵母(S.cerevisiae,釀酒酵母)的 DNA 復(fù)制分叉的 TEM 圖片,使用 EM ACE600 電子束鍍膜機通過小角度旋轉(zhuǎn)投影方法獲得

為實驗選擇合適的工作流程


EM ACE600 有助于您在進(jìn)行材料科學(xué)和生物學(xué)實驗時獲得高質(zhì)量的結(jié)果。

工作流程包括標(biāo)準(zhǔn)透射電鏡和掃描電鏡樣本制備、切片斷層掃描 3D 工作流程、聚焦離子束掃描電鏡 (FIB SEM) 等。 如需詳細(xì)了解以下領(lǐng)域的工作流程解決方案:

生命科學(xué)研究,請下載工作流程手冊

材料科學(xué)研究,請下載工作流程手冊

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